| 研究会 | 開催日 | 連絡事項 |
| 第119回研究会 | 2025年 2月28日(金) | 終了いたしました。 |
| 第120回研究会 | 2025年 5月 9日(金) | 終了いたしました。 |
| 第121回研究会 | 2025年 6月20日(金) | 終了いたしました。 |
| 第122回研究会 | 2025年 8月29日(金) | 終了いたしました。 |
| 第123回研究会 | 2025年 10月17日(金) | 終了いたしました。 |
| 第124回研究会 | 2025年12月19日(金) | 日本大学駿河台キャンパスにてハイブリッド開催 |
「先端半導体のデバイス工程を支える加工技術」
開催日時:2025年12月19日(金) 13:00 ~ 17:00
会 場:日本大学 理工学部 駿河台キャンパス 1号館6階CSTホール
〒101-8303 東京都千代田区神田駿河台1-8-14
&Webexハイブリッド開催
開催案内:こちら
申込締切:2025年 12月4日(木)
2025年の半導体市場は、人工知能(AI)や高性能コンピューティング(HPC)、WBG半導体(SiC、GaNなど)の需要拡大を背景に、世界的に大きな成長が見込まれています。半導体の製造工程は、「ウエハ製造」と、半導体チップを作り込む「前工程」、チップを切り出してパッケージ化し完成させる「後工程」から成り、「前工程」や「後工程」においても「プラナリゼーションCMP」、「バックオフ」、「ダイシング」などの機械加工技術が重要な役割を果たしています。そこで、本研究会では、先端半導体製造の現場で直面している課題についてメーカーの立場から解説頂くと共に、先端半導体のデバイス工程を支える加工技術に関わる著名な研究者・技術者の方々に講演していただきます。
| 13:00~13:05 | 開催挨拶 | |
| 13:05~13:55 | 電動車用パワー半導体のデバイスとプロセス技術の開発 | 株式会社ミライズテクノロジーズ 藤原 広和 氏 |
| 13:55~14:45 | 触媒表面基準エッチング法および高圧力プラズマを用いたエッチングのデバイス工程への応用 | 大阪大学 佐野 泰久 氏 |
| 14:45~15:05 | 休憩 | |
| 15:05~15:55 | ウォータガイドレーザ加工技術の半導体分野への応用 | 株式会社マキノフライス製作所 平野 舜也 氏 |
| 15:55~16:45 | 「次世代半導体技術」の重要性と砥粒加工の役割 | 株式会社岡本工作機械製作所 倉知 雅人 氏 |
| 16:45~16:55 | 閉会挨拶 | |
| 17:10~19:10 | 技術交流会 | |
| 司会・企画担当 | 加藤 智久、河田 研治、板津 武志 | |
「レーザ微細加工」
開催日時:2025年2月20日(金)予定
会 場:日本大学駿河台キャンパス&Webex 開催予定
参加受付期間:2025年12月~2月予定
※期間外は受け付けておりません。
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